- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機(jī)、數(shù)字真空計且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實驗。
主要技術(shù)參數(shù)：
雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品規(guī)格：
|
主要技術(shù)參數(shù) |
||
|
雙 溫 區(qū) 管 式 爐 |
顯示模式 |
7英寸觸摸屏 |
|
真空控制 |
可通過參數(shù)設(shè)置，自動完成抽真空，恒壓工作 |
|
|
爐管材料 |
高純石英 |
|
|
爐管尺寸 |
直徑：50mm，長度1000mm |
|
|
加熱溫區(qū) |
兩溫區(qū) |
|
|
溫區(qū)長度 |
200mm+200mm |
|
|
工作溫度 |
室溫～1100℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
升溫速率 |
建議10℃/min |
|
|
控溫模式 |
可編程程序控溫 |
|
|
密封方式 |
真空法蘭密封 |
|
|
雙通道質(zhì)量流量計 |
氣體通道 |
兩通道 |
|
測量儀器 |
質(zhì)量流量計 |
|
|
A路量程 |
氫氣：0～500SCCM |
|
|
B路量程 |
氬氣：0～1000SCCM |
|
|
連接管道 |
拋光不銹鋼管 |
|
|
氣體緩沖器 |
1000ml |
|
|
工作壓力 |
≦3Mpa |
|
|
工作壓差 |
0.3MPa |
|
|
管道接口 |
6.35mm卡套接頭 |
|
|
真空泵 |
抽氣接口 |
KF25 |
|
排氣接口 |
KF25 |
|
|
抽氣速率 |
24立方米/小時 |
|
|
極限真空 |
5.0E-2Pa |
|
|
電機(jī)功率 |
1100W |
|
|
電機(jī)轉(zhuǎn)速 |
1440轉(zhuǎn)/分鐘 |
|
|
真空計 |
傳感器類型 |
皮拉力 |
|
真空量程 |
1.0E-1Pa～1.0E5Pa |
|
|
安裝方式 |
豎直放置 |
|
|
工作電壓 |
DC24V |
|
|
相關(guān)配件 |
連接管道 |
KF25波紋管1米長 |
|
聚四氟管5米 |
||
|
石英爐管1根 |
||
|
爐管塞子4個 |
||
|
爐鉤1支 |
||
|
防護(hù)手套1雙 |
||
|
真空法蘭1套（帶密封圈、針閥、氣路接頭） |
||
